特許
J-GLOBAL ID：200903038092662813
液晶表示装置及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-141793
公開番号（公開出願番号）：特開平8-334781
出願日： 1995年06月08日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：
【要約】【目的】 TFTアレイ基板の製造過程において異物に起因する半導体層のエッチング残りを除去し、表示品位を回復する。【構成】 薄膜トランジスタを覆う保護膜(17)が表示電極(13P)にまでかからない構造である。Alのウエットエッチによりゲート配線(17)を形成した後、SiNx/a-Siをドライエッチする際に異物が付着してa-Siの残留物(RM)が残っても、保護膜(17)上からエッチングすることで、残留a-Siが表示電極(13P)から切り離され、高抵抗接続によるクロストークや電圧保持率の低下が防がれる。
請求項（抜粋）：
基板上にマトリクス状に配置された液晶駆動用の表示電極と、前記表示電極の列間に配置された信号線用のドレインラインと、前記表示電極の行間に配置された走査線用のゲートラインと、前記ドレインラインと前記ゲートラインの交差部に形成され、前記表示電極に信号電圧を供給する薄膜トランジスタと、前記表示電極以外の略全面を覆う保護膜とを有する液晶表示装置において、前記保護膜は前記表示電極上及び前記表示電極からはみ出した領域に開口領域を有し、この開口領域内、かつ、前記表示電極の領域外において表示電極の下地面が露出されていることを特徴とする液晶表示装置。
引用特許：
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