特許
J-GLOBAL ID:200903038142051268
エポキシシランの製法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
矢野 敏雄 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-221321
公開番号(公開出願番号):特開2001-072689
出願日: 2000年07月21日
公開日(公表日): 2001年03月21日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 安価で且つ比較的短時間にエポキシシランを製造できる工業的に有利な製法の提供。【解決手段】 触媒の存在下にヒドロゲンシランとアリルグリシドエーテルとを反応させ、その際得られる粗製生成物を後処理する場合に、触媒を粗製生成物から除去し、引き続き粗製生成物を蒸留する一般式Iのエポキシシランの製造方法。(RはC1〜4の線状又は分枝鎖のアルキル又はアリール基、R1はC1〜4の線状又は分枝鎖アルキル基、nは0〜2の整数である)
請求項(抜粋):
触媒の存在下にヒドロゲンシランとアリルグリシドエーテルとを反応させ、かつその際得られる粗製生成物を後処理することによるエポキシシランの製法において、触媒を粗製生成物から除去し、引き続き粗製生成物を蒸留することを特徴とする、エポキシシランの製法。
IPC (2件):
C07F 7/18
, C07B 61/00 300
FI (2件):
C07F 7/18 S
, C07B 61/00 300
引用特許:
審査官引用 (21件)
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特開昭63-264591
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特開昭63-146890
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エポキシシリコーンの合成法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-110847
出願人:ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
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特開昭50-065596
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特開平2-255689
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ケイ素系正孔輸送材の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-287644
出願人:ダウコーニングアジア株式会社
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高分子液晶の精製法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-358313
出願人:出光興産株式会社
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特開昭64-052738
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特開平1-108323
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特開昭63-264591
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特開昭63-146890
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特開昭50-065596
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特開平2-255689
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特開昭64-052738
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特開平1-108323
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特開昭63-264591
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特開昭63-146890
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特開昭50-065596
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特開平2-255689
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特開昭64-052738
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特開平1-108323
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