特許
J-GLOBAL ID：200903038156596011
フッ素置換イリジウム錯体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須田 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-067918
公開番号（公開出願番号）：特開2003-113190
出願日： 2002年03月13日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：
【要約】【課題】 発光効率が高く、耐久性に優れたフッ素置換イリジウム錯体を効率よく製造し得る。【解決手段】 窒素原子から数えて1,6,7又は12位を除く位置に1つだけフッ素が置換されたフッ素置換2-フェニルピリジンとイリジウム(III)アセチルアセトネートとを反応させ、フッ素置換イリジウム錯体を形成させる方法である。その特徴ある構成は、フッ素置換2-フェニルピリジンがフッ素置換ハロゲン化ベンゼンを金属マグネシウムと反応させることにより得られる有機金属化合物と2-ハロゲン化ピリジンとを反応させることにより合成されるとき、フッ素置換2-フェニルピリジンの合成反応に用いられる溶媒がテトラヒドロフランである。
請求項（抜粋）：
次の式(1)に示される窒素原子から数えて1,6,7又は12位を除く位置に1つだけフッ素が置換されたフッ素置換2-フェニルピリジンとイリジウム(III)アセチルアセトネートとを反応させ、次の式(2)に示されるフッ素置換イリジウム錯体を形成させるフッ素置換イリジウム錯体の製造方法において、前記フッ素置換2-フェニルピリジンが次の式(3)で示されるフッ素置換ハロゲン化ベンゼンを有機リチウム化合物と反応させた後、塩化亜鉛(II)と反応させることにより得られる次の式(4)で示されるフッ素置換塩化亜鉛ベンゼンと次の式(5)で示される2-ハロゲン化ピリジンとを反応させることにより合成されるとき、前記フッ素置換2-フェニルピリジンの合成反応に用いられる溶媒がテトラヒドロフランであることを特徴とするフッ素置換イリジウム錯体の製造方法。【化1】但し、整数m及びnの関係がm+n=1であって、0≦m≦1かつ0≦n≦1である。【化2】但し、整数m及びnの関係がm+n=1であって、0≦m≦1かつ0≦n≦1である。【化3】但し、XはCl、Br又はI元素である。【化4】【化5】但し、X’はCl、Br又はI元素である。
IPC (3件)：
C07F 15/00
, C07D213/26
, C07D213/61
C07F 15/00 E
, C07D213/26
, C07D213/61
4C055AA01
, 4C055BA02
, 4C055BA03
, 4C055BA08
, 4C055BA13
, 4C055BA39
, 4C055BB14
, 4C055CA01
, 4C055CA02
, 4C055CA39
, 4C055DA01
, 4C055DA39
, 4C055FA03
, 4C055FA37
, 4C055GA02
, 4H050AA02
