特許
J-GLOBAL ID:200903038172120698
ウェーハ保持具、ウェーハ保持装置及び熱処理炉
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
八田 幹雄 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-315553
公開番号(公開出願番号):特開2002-124519
出願日: 2000年10月16日
公開日(公表日): 2002年04月26日
要約:
【要約】【課題】 シリコンウェーハの高温熱処理において、生産性を損なわずに、かつスリップ発生を十分に抑制することのできる、廉価なウェーハ保持具、ウェーハ保持装置及び熱処理炉を提供する。【解決手段】 上面にウェーハを載せる板状の保持具であって、該保持具上にウェーハ支持部を有する3個以上のウェーハ受け部材が配置され、かつ該受け部材の内少なくとも1個がその上部に複数の凸部形状のウェーハ支持部を有する構成であると共に、保持具に対し可動である構造を有してなる可動受け部材からなり、ウェーハを少なくとも4箇所のウェーハ支持部で支持してなることを特徴とするウェーハ保持具、及び、該ウェーハ保持具を複数組み込んだウェーハ保持装置並びに熱処理炉である。
請求項(抜粋):
上面にウェーハを載せる板状の保持具であって、該保持具上にウェーハ支持部を有する3個以上のウェーハ受け部材が配置され、かつ該受け部材の内少なくとも1個がその上部に複数の凸部形状のウェーハ支持部を有すると共に、保持具に対し可動である構造を有してなる可動受け部材からなり、ウェーハを少なくとも4箇所のウェーハ支持部で支持してなることを特徴とするウェーハ保持具。
IPC (4件):
H01L 21/324
, H01L 21/22 511
, H01L 21/68
, H01L 27/12
FI (4件):
H01L 21/324 Q
, H01L 21/22 511 G
, H01L 21/68 N
, H01L 27/12 E
Fターム (8件):
5F031CA02
, 5F031FA12
, 5F031GA08
, 5F031HA02
, 5F031HA08
, 5F031HA62
, 5F031HA64
, 5F031MA30
引用特許:
出願人引用 (8件)
-
ウエハ熱処理方法およびこれに用いるガードリング構造
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-318330
出願人:沖電気工業株式会社, 光洋リンドバーグ株式会社
-
ウェーハ支持装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-098409
出願人:住友シチックス株式会社
-
半導体製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-033918
出願人:住友金属工業株式会社
-
基板支持治具
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-317106
出願人:信越半導体株式会社
-
縦型ウエハボートのウエハ支持構造
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-304951
出願人:エヌ・ティ・ティ・エレクトロニクステクノロジー株式会社, コマツ電子金属株式会社, 三造メタル株式会社
-
ウェーハ保持具
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-253575
出願人:三菱マテリアルシリコン株式会社
-
熱処理用ボ-ト
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-266531
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
-
熱処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-067047
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
全件表示
前のページに戻る