PECVDサセプタ支持構造体

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：長谷川芳樹 , 山田行一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-268940
公開番号（公開出願番号）：特開2006-121054
出願日： 2005年09月15日
公開日（公表日）： 2006年05月11日
要約：

【課題】フラットパネルディスプレイの製造において大面積基板を支持するためのシステム及び方法を提供する。【解決手段】複数の支持プレート29は、少なくとも1つのアクチュエータ218に結合された複数の支持シャフト233、234により支持される。サセプタ214の水平断面プロフィールを選択的に調整して均等且つ均一な処理を促進するように設計される。水平プロフィールは、平坦、凹状又は凸状の1つでよく、処理の前、処理中又は処理の後に調整を行う。【選択図】図2A

請求項（抜粋）：

堆積チャンバー内にサセプタを支持するように適応された複数の支持プレートを備え、上記複数の支持プレートの少なくとも4つが、上記堆積チャンバーの外部に延びる少なくとも2つの支持シャフトに結合するように適応されるサセプタ支持装置。

IPC (4件)：

H01L 21/683 , C23C 16/458 , H01L 21/205 , B65G 49/06

FI (4件)：

H01L21/68 N , C23C16/458 , H01L21/205 , B65G49/06 Z

Fターム (23件)：

4K030CA06 , 4K030CA07 , 4K030FA01 , 4K030FA10 , 4K030GA02 , 4K030KA45 , 4K030LA18 , 5F031CA05 , 5F031HA33 , 5F031HA37 , 5F031HA38 , 5F031HA58 , 5F031LA15 , 5F031MA28 , 5F031PA11 , 5F031PA14 , 5F031PA18 , 5F045AA08 , 5F045BB11 , 5F045DP02 , 5F045EF05 , 5F045EM02 , 5F045EM10

引用特許：

審査官引用 (4件)

ウェハ保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-072904 出願人：京セラ株式会社
基板処理システム、サセプタ支持装置及び基板支持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-287265 出願人：エーケーティー株式会社
表面処理装置および表面処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-335749 出願人：株式会社神戸製鋼所

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