特許
J-GLOBAL ID:200903038318914829
冷陰極及びその冷陰極の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐々木 晴康 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-018242
公開番号(公開出願番号):特開2001-210221
出願日: 2000年01月27日
公開日(公表日): 2001年08月03日
要約:
【要約】【課題】 信頼性の高い、XYマトリクス可能な電子源を有する冷陰極を提供すると共に、このような冷陰極を低コスト、簡便に製造する。【解決手段】 本願の冷陰極は、ゲート絶縁層を第1のゲート絶縁層、第2のゲート絶縁層で構成し、第1のゲート絶縁層は細孔を有し、細孔には電子源を配設し、電子源は高抵抗層に対して並列に接続される。好ましくは、ゲート絶縁層に細孔を設けた鋳型構造をアルミナ陽極酸化皮膜、鋳型構造に形成する電子源をカーボンナノチューブで構成する。
請求項(抜粋):
電子源と、前記電子源と電気的に接続されたカソード電極と、ゲート電極と、前記電子源と前記ゲート電極とを電気的に絶縁するためのゲート絶縁層とから構成される冷陰極において、前記ゲート絶縁層が第1のゲート絶縁層と第2のゲート絶縁層とで構成され、前記第1のゲート絶縁層が電子放出領域を形成し、前記第2のゲート絶縁層が前記カソード電極とゲート電極との絶縁層を形成することを特徴とする冷陰極。
IPC (4件):
H01J 1/304
, H01J 9/02
, H01J 29/04
, H01J 31/12
FI (4件):
H01J 9/02 B
, H01J 29/04
, H01J 31/12 C
, H01J 1/30 F
Fターム (5件):
5C031DD09
, 5C036EF01
, 5C036EG02
, 5C036EG12
, 5C036EH04
引用特許:
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