特許
J-GLOBAL ID：200903038363445457
光ディスク製造方法および凹凸パターン転写方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
早川 裕司
, 鈴木 啓靖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-126431
公開番号（公開出願番号）：特開2004-259435
出願日： 2004年04月22日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：
【課題】 スタンパーへの付着物を低減させることのできる光ディスク製造方法および凹凸パターン転写方法を提供する。【解決手段】 エネルギー線硬化性を有する高分子材料を主成分とし、硬化前の貯蔵弾性率が103〜106Paであるスタンパー受容層11と光ディスク基板3とを積層し、そのスタンパー受容層11の表面にスタンパーSを圧着し、エネルギー線の照射によってスタンパー受容層11を硬化させ、スタンパーSの凹凸パターンが転写・固定されたスタンパー受容層11の表面に反射膜4を形成し、その反射膜4上に接着剤5を介して保護シート6を積層する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
エネルギー線硬化性を有する高分子材料を主成分とし、硬化前の貯蔵弾性率が103〜106Paであるスタンパー受容層を備えた光ディスク製造用シートの前記スタンパー受容層と光ディスク基板とを積層し、
前記スタンパー受容層の表面にスタンパーを圧着し、エネルギー線の照射によって前記スタンパー受容層を硬化させ、
前記スタンパーの凹凸パターンが転写・固定された前記スタンパー受容層の表面に反射膜を形成し、
前記反射膜上に接着剤を介して保護シートを積層する
ことを特徴とする光ディスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
4F204AA44
, 4F204AG01
, 4F204AG03
, 4F204AG05
, 4F204AG26
, 4F204AH79
, 4F204EA03
, 4F204EB01
, 4F204EF27
, 4F204EK18
, 4F204EK24
, 4F204EW02
, 4F204EW37
, 5D121EE27
, 5D121JJ07
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (15件)
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