トランジスタ製造方法

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木晴敏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-351647
公開番号（公開出願番号）：特開平6-177142
出願日： 1992年12月08日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：

【要約】【目的】トランジスタのディプレッションを改善する。【構成】真空チャンバ1の内部にガス導入口3を介して酸素が導入される。一対の電極板4,5の間に高周波が印加され酸素イオン及び/又は酸素活性種を含むプラズマ8が発生する。下側の電極板5の表面にはトランジスタの形成された基板9が載置されており、酸素イオン及び/又は酸素活性種を含む雰囲気中でアニールする。これにより、基板9の上に形成されたトランジスタのディプレッションを改善できる。

請求項（抜粋）：