特許
J-GLOBAL ID：200903038407078015
純度の高いヒドロキシル含有ポリマーを調製するための無水液相方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
社本 一夫
, 増井 忠弐
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 野矢 宏彰
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-586199
公開番号（公開出願番号）：特表2005-535737
出願日： 2003年04月10日
公開日（公表日）： 2005年11月24日
要約：
重合、精製、エステル交換、精製、触媒除去および溶媒交換の工程を含む高い純度のヒドロキシル含有ポリマーを調製するための無水液相方法。結果として得られる溶解したポリマーは、さらなる加工工程なしで、フォトレジスト組成物を製造するために直接用いることができる。
請求項（抜粋）：
下記工程を含む、溶解した無水純ヒドロキシル含有ポリマーを調製するための液相方法:
(A)置換スチレンアルキルアクリレート、エチレン不飽和共重合性モノマー(単数もしくは複数)およびこれらの混合物からなる群から選ばれるモノマー(単数もしくは複数)を、ポリマーと第一溶媒との混合物を生成するに十分な時間ならびに十分な温度および圧力で、開始剤の存在下第一溶媒中で重合し;
(B)前記ポリマーと第一溶媒との混合物を分留により精製し(その際、追加第一溶媒が前記混合物に添加され、前記混合物は加熱および/または攪拌され、前記混合物は沈降され、前記第一溶媒はデカントされ、さらに第一溶媒が添加され、この分留を少なくとももう1回繰り返す);
(C)工程(B)の前記精製混合物をエステル交換し(その際、前記混合物は、ヒドロキシル含有ポリマーと第一溶媒とを含む反応混合物を生成するに十分な時間ならびに十分な温度および圧力で、触媒の存在下前記第一溶媒の沸点で還流される);
(D)工程(C)からの前記反応混合物を精製し(その際、第二溶媒が前記反応混合物を混合され、前記第二溶媒は不混和性である)、層を分離させ、前記第二溶媒ならびに溶解した副生物およびそれに溶解した低重量平均分子量ポリマーを除去し;
(E)触媒を除去し、かくて実質的に無触媒のヒドロキシル含有ポリマー溶液を与えるために、工程(D)からの前記精製反応混合物をイオン交換材料に通し;
(F)工程(E)からの前記ヒドロキシル含有ポリマー溶液にフォトレジスト相溶性である第三溶媒を添加し、ついで前記第一溶媒を実質的にすべて除去して前記第三溶媒中に溶解した実質的に純粋なヒドロキシル含有ポリマーを与えるに十分な時間少なくとも前記第一溶媒の沸点の温度で、前記第一溶媒を蒸留して除く。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
4J100AB07P
, 4J100AL08Q
, 4J100BA03P
, 4J100BC02Q
, 4J100BC04Q
, 4J100BC09Q
, 4J100CA01
, 4J100FA19
, 4J100GA19
, 4J100GA22
, 4J100GC07
, 4J100GC35
, 4J100HA08
, 4J100HA13
