特許
J-GLOBAL ID：200903038428768046
光導波路モジュール及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-169175
公開番号（公開出願番号）：特開2001-350051
出願日： 2000年06月06日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：
【要約】【課題】 各種の優れた光学特性を有する光導波路モジュール及びその光導波路モジュールを簡便で安価に製造することが可能な技術を提供する。【解決手段】 光導波路に光入出力用の光ファイバが接続されてなる光導波路モジュールの製造方法であって、基板に光ファイバ挿入用のV溝を加工する工程と、該V溝付基板のV溝領域に高分子膜剥離用の薄膜をコートする工程と、前記V溝付基板上の所定の位置に埋め込み型の高分子光導波路を作製する光導波層作製工程と、前記基板の所定の位置で光導波路及び基板の一部を厚み方向に切削する工程と、前記高分子光導波路をV溝付基板ごと所定の溶液に浸漬して前記V溝領域上に付着した高分子のみを基板から剥離する工程と、再露出したV溝部分に光ファイバを挿入し高分子光導波路と無調心で光接続する際に両者の光軸と接続面の面法線と傾きをもつよう予め両者の接続面を加工しておく工程と、光ファイバを光学接着剤を用いてV溝付基板及びあるいは高分子光導波路と強固に固定する工程と有する。
請求項（抜粋）：
光導波路に光入出力用の光ファイバが接続されてなる光導波路モジュールの製造方法であって、基板に光ファイバ挿入用のV溝を加工する工程と、このV溝付基板のV溝領域に高分子膜剥離用の薄膜を被覆(コート)する工程と、前記V溝付基板上の所定の位置に埋め込み型の高分子光導波路を形成する光導波層形成工程と、前記基板の所定の位置で光導波路及び基板の一部を厚み方向に切削する工程と、前記高分子光導波路を基板ごと所定の溶液に浸漬して前記V溝領域上に付着した高分子のみを基板から剥離する工程と、再露出したV溝部分に光ファイバを挿入し高分子光導波路と無調心で光接続する際に両者の光軸と接続面の面法線と傾きをもつよう予め両者の接続面を加工しておく工程と、光ファイバを光学的接着剤を用いて前記V溝付基板及びあるいは高分子光導波路と強固に固定する工程とを備えたことを特徴とする光導波路モジュールの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (25件)：
2H037AA01
, 2H037BA24
, 2H037CA10
, 2H037DA12
, 2H037DA13
, 2H037DA17
, 2H047KA03
, 2H047KA12
, 2H047LA12
, 2H047LA18
, 2H047MA05
, 2H047NA01
, 2H047PA02
, 2H047PA03
, 2H047PA04
, 2H047PA24
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047QA07
, 2H047RA08
, 2H047TA05
, 2H047TA32
, 2H047TA35
, 2H047TA43
, 2H047TA44
