特許
J-GLOBAL ID:200903038429713903

レーザ溶接装置およびレーザ溶接方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 谷 義一 ,  阿部 和夫
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-558343
公開番号(公開出願番号):特表2008-531355
出願日: 2006年03月03日
公開日(公表日): 2008年08月14日
要約:
レーザ溶接に用いられる波長で低光透過率を有するポリマー物品をレーザ溶接するのに特に適しているレーザ溶接方法および装置。溶接中に照射表面を劣化から保護するように設計された保護領域が溶接される物品に設けられる。
請求項(抜粋):
熱可塑性ポリマーを備える第1の部材と熱可塑性ポリマーを備える第2の部材とを互いに接触させるとともに、レーザ光が前記第1の部材を通過して前記第2の部材に接触するようにレーザ光による前記第1の部材の表面の照射により前記第1および第2の部材を溶着し、さらに前記第2の部材が前記レーザ光が前記第2の部材に接触する点で前記レーザ光を吸収可能であるレーザ溶接装置であって、 レーザ光照射手段と、 前記第1および第2の部材を所定の位置に保持または固定する固定手段と、 前記第1の部材上に保護領域を形成する手段とを備えることを特徴とするレーザ溶接装置。
IPC (1件):
B29C 65/16
FI (1件):
B29C65/16
Fターム (11件):
4F211AA24 ,  4F211AA25 ,  4F211AA34 ,  4F211AP05 ,  4F211AR06 ,  4F211TA01 ,  4F211TJ21 ,  4F211TJ22 ,  4F211TJ31 ,  4F211TN27 ,  4F211TQ11
引用特許:
出願人引用 (8件)
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