特許

J-GLOBAL ID：200903038434325342

開環メタセシス重合体水素添加物、それを含有するレジスト材料及びパターン形成方法

発明者： 須永 忠弘 ,  大川 祐一 ,  金生 剛 ,  小林 知洋
出願人/特許権者： 三井化学株式会社 ,  信越化学工業株式会社
代理人 (2件)： 速水 進治 ,  佐藤 浩司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-264264
公開番号（公開出願番号）：特開2008-081633
出願日： 2006年09月28日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：

【課題】主鎖に脂環骨格をもち、耐エッチング性に優れ、かつ現像特性の優れた樹脂、この樹脂を用いた高エネルギー線露光用レジスト材料、およびこのレジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】脂環骨格を有する構造単位[A]、[B]、[C]とから構成され、かつ、構造単位[A]の一般式[1]のX1、構造単位[B]の一般式[3]のX2、および一般式[4]のX3、のうち少なくとも一つが-O-であり、その構成モル比が[A]/([B]+[C])=20/80〜98/2、([A]+[B])/[C]=99/1〜50/50、([A]+[C])/[B]=99/1〜21/79を満たす開環メタセシス重合体水素添加物と、それを含有するレジスト材料及びパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも下記一般式[1]

IPC (2件)：

C08G 61/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

C08G61/08 ,  H01L21/30 502R

Fターム (25件)：

2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF29 ,  2H025BG00 ,  2H025FA01 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J032CA36 ,  4J032CA38 ,  4J032CA43 ,  4J032CA45 ,  4J032CA68 ,  4J032CB05 ,  4J032CC03 ,  4J032CD02 ,  4J032CD03 ,  4J032CD04 ,  4J032CD05 ,  4J032CE03 ,  4J032CF03 ,  4J032CG00 ,  4J032CG02

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平4-39665号公報
  
• 感光性樹脂組成物、感光液組成物及び感光性フィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-177715   出願人：三井東圧化学株式会社