特許
J-GLOBAL ID:200903038501576380

金属箔の製造方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-186970
公開番号(公開出願番号):特開平10-018076
出願日: 1996年06月28日
公開日(公表日): 1998年01月20日
要約:
【要約】【課題】 電解金属箔の製造において初期電着の均一性を確保する技術を確立すること。【解決手段】 回転ドラム型カソードA上に電解反応により形成した金属層を剥離する方法を用いた金属箔の製造において、電流密度調整用の補助アノードEをアノードB上方で金属層の電着開始時カソードが電解液と接触して微弱な電流が流れ始める位置Cに設置し、電着開始時に急激に電流密度を増加させることにより、カソード上に均一な初期電着核を形成し、ピンホール欠陥の少ない均質な製品を製造する。
請求項(抜粋):
電解液に浸したカソードと、これに対向するアノードとの間に電気を流し、前記のカソード表面に電気化学的に金属層を電着させた後に、この電着金属層を剥離して金属箔を製造するに際し、前記の金属層の電着開始時カソードが電解液と接触して微弱な電流が流れ始める時点で、カソード上での電流密度を製箔時の平均の60%超とするよう電流を流すことを特徴とする金属箔の製造方法。
IPC (2件):
C25D 1/04 311 ,  C25D 1/04
FI (2件):
C25D 1/04 311 ,  C25D 1/04
引用特許:
審査官引用 (10件)
全件表示

前のページに戻る