半導体製造装置の照明光学系

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：猪熊克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-294443
公開番号（公開出願番号）：特開平10-125585
出願日： 1996年10月15日
公開日（公表日）： 1998年05月15日
要約：

【要約】【課題】光源に強度ムラがあっても照度の均一性を確保することができ、且つ干渉ノイズも低減することができる半導体製造装置の照明光学系を提供する。【解決手段】第1及び第2の1次元マルチビーム生成光学系3,4からなる2次元マルチビーム生成光学系2によって、レーザ光源1から射出したビームからN×M本の2次元ビーム群を生成し、該N×M本の2次元ビーム群を、フライアイ・レンズアレー7a,7b、コンデンサレンズ8a,8b、及びレチクル20の順に入射した半導体製造装置の照明光学系において、N×M本のビーム群から選択した任意の2本のビームの光路長差が、レーザ光源1の時間コヒーレンスによって定まるコヒーレンス長以上となるように、2次元マルチビーム生成光学系2を形成し、2次元ビーム群を、1又は複数枚の拡散板5a,5bを介してフライアイ・レンズアレー7a,7bに入射したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

レーザ光源から射出した1本のビームを行方向に平行なN本のビーム群に変換する第1の1次元マルチビーム生成光学系と、前記N本のビーム群の各々のビームをそれぞれ列方向に平行なM本のビーム群に変換する第2の1次元マルチビーム生成光学系とからなる2次元マルチビーム生成光学系によって、全体としてN×M本の2次元ビーム群を生成し、該N×M本の2次元ビーム群を、フライアイ・レンズアレー、コンデンサレンズ、及びレチクルの順に入射した半導体製造装置の照明光学系において、前記N×M本のビーム群から選択した任意の2本のビームの光路長差が、前記レーザ光源の時間コヒーレンスによって定まるコヒーレンス長以上となるように、前記2次元マルチビーム生成光学系を形成し、前記2次元ビーム群を、1又は複数枚の拡散板を介して前記フライアイ・レンズアレーに入射したことを特徴とする半導体製造装置の照明光学系。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 505

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D , G03F 7/20 505 , H01L 21/30 527

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭63-211624
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-016590 出願人：株式会社ニコン
露光照明装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-010227 出願人：ソニー株式会社

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