特許
J-GLOBAL ID:200903038539794321

製麹方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石山 博 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-179601
公開番号(公開出願番号):特開平9-000244
出願日: 1995年06月23日
公開日(公表日): 1997年01月07日
要約:
【要約】【目的】 製麹方法において、麹品質の向上と安定化を図る。【構成】 製麹室12内の空気は、温度及び相対湿度を経時的に制御されるとともに、酸素濃度についても制御される。酸素源としては外気が利用され、外気は、製麹室12の温度及び相対湿度の変動を抑制するために、除湿装置30及び加熱装置32において相対湿度及び温度を調節されてから、製麹室12へ導入される。
請求項(抜粋):
製麹室(12)の温度及び相対湿度を経時的に設定された値で制御する製麹方法において、前記製麹室(12)の酸素濃度について制御することを特徴とする製麹方法。
IPC (2件):
C12N 1/14 101 ,  C12M 1/16 103
FI (2件):
C12N 1/14 101 ,  C12M 1/16 103
引用特許:
審査官引用 (4件)
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