特許
J-GLOBAL ID：200903038540470041
光回路の特性調整方法
発明者：
,
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 精孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-093125
公開番号（公開出願番号）：特開平6-308546
出願日： 1993年04月20日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：
【要約】【目的】 光回路を構成する光導波路の局部的な屈折率もしくは光路長を効率良く制御可能とする光回路の特性調整方法を提供する。【構成】 シリコン基板11上に形成された方向性結合器12a,12b及び光導波路13a,13bで構成されるマッハツェンダ干渉計10に対して、室温で水素を含浸させた後、熱処理を行うことにより、光誘起屈折率変化の敏感性を簡便且つ安全にしかも制御性良く高め、その後、金属膜22で覆われていない光導波路13aの一部分だけにKrFエキシマレーザ23からの紫外光を照射することにより、その屈折率を修正して特性を調整する。
請求項（抜粋）：
基板上に形成されたコア及びクラッドからなる光導波路で構成される光回路の特性調整方法であって、前記光導波路に室温で水素を含浸させる工程と、前記光導波路に熱処理を行う工程と、前記光導波路に局部的に可視光又は紫外光を照射する工程とを備えたことを特徴とする光回路の特性調整方法。
IPC (3件)：
G02F 1/35
, G02B 6/12
, G02F 1/035
