めっき装置及びめっき方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邉勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-228898
公開番号（公開出願番号）：特開2001-049495
出願日： 1999年08月12日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：

【要約】【課題】噴流めっき装置であって、カソード電極ピンへのめっきの付着がなく、しかも基板の側面や裏面の金属汚染を防止しつつ、基板のめっき面全体を気泡のない良好な状態でめっきすることができるようにしためっき装置及びめっき方法を提供する。【解決手段】めっき液10を保持する円筒状のめっき槽12と、該めっき槽12の外部から供給されるめっき液10により上方に向けためっき液10の噴流を形成するめっき液噴射部18と、基板Wを着脱自在に保持して該基板W下面のめっき面がめっき液10の噴流と接触するように水平に配置する基板保持部14と、該基板保持部14を回転及び昇降させる回転機構38及び昇降機構42を備えた駆動部44とを有し、該昇降機構42により基板保持部14を下降させた位置において該基板W下面のめっき面にめっきを施すことを可能とし、該昇降機構42により基板保持部14を上昇させた位置において該基板保持部14へ基板Wを取付けまたは該基板保持部14から基板Wを取出すことを可能とした。

請求項（抜粋）：

めっき液を保持する円筒状のめっき槽と、該めっき槽の外部から供給されるめっき液により上方に向けためっき液の噴流を形成するめっき液噴射部と、基板を着脱自在に保持して該基板下面のめっき面がめっき液の噴流と接触するように水平に配置する基板保持部と、該基板保持部を回転及び昇降させる回転機構及び昇降機構を備えた駆動部とを有し、該昇降機構により基板保持部を下降させた位置において該基板下面のめっき面にめっきを施すことを可能とし、該昇降機構により基板保持部を上昇させた位置において該基板保持部へ基板を取付けまたは該基板保持部から基板を取出すことを可能としたことを特徴とするめっき装置。

IPC (4件)：

C25D 17/00 , C25D 5/08 , C25D 7/00 , C25D 7/12

FI (4件)：

C25D 17/00 B , C25D 5/08 , C25D 7/00 J , C25D 7/12

Fターム (14件)：

4K024AA09 , 4K024AB02 , 4K024AB15 , 4K024BA11 , 4K024BB12 , 4K024BC10 , 4K024CA15 , 4K024CB02 , 4K024CB13 , 4K024CB15 , 4K024CB16 , 4K024CB18 , 4K024CB21 , 4K024GA16

引用特許：

審査官引用 (1件)

自動ウェーハめっき装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-011189 出願人：日本エレクトロプレイテイング・エンジニヤース株式会社

前のページに戻る