特許

J-GLOBAL ID：200903038584074895

シクロペンタジエニル基含有ケイ素化合物またはシクロペンタジエニル基含有ゲルマニウム化合物の製造方法

発明者： 木 曽 佳 久 ,  二田原 正 利 ,  川 合 浩 二
出願人/特許権者： 三井石油化学工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-065625
公開番号（公開出願番号）：特開平6-279478
出願日： 1993年03月24日
公開日（公表日）： 1994年10月04日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】(i)シクロペンタジエン誘導体のリチウム、ナトリウムまたはカリウム塩と、(ii)ハロゲン化ケイ素化合物またはハロゲン化ゲルマニウム化合物とを、式(R2N)3PO[式中、Rは炭素数1〜20の炭化水素基である]で表されるホスホリックトリアミド化合物の存在下に反応させることを特徴とするシクロペンタジエニル基含有ケイ素化合物またはシクロペンタジエニル基含有ゲルマニウム化合物の製造方法。【効果】 嵩高いシクロペンタジエニル基含有ケイ素化合物またはシクロペンタジエニル基含有ゲルマニウム化合物を、短時間で収率よく製造できる。

請求項（抜粋）：

(i) シクロペンタジエン誘導体のリチウム、ナトリウムまたはカリウム塩と、(ii)ハロゲン化ケイ素化合物またはハロゲン化ゲルマニウム化合物とを、式 (R2N)3PO [式中、Rは炭素数1〜20の炭化水素基である]で表されるホスホリックトリアミド化合物の存在下に反応させることを特徴とするシクロペンタジエニル基含有ケイ素化合物またはシクロペンタジエニル基含有ゲルマニウム化合物の製造方法。

IPC (5件)：

C07F 17/00 ,  B01J 31/02 102 ,  C07F 7/00 ,  C07F 7/08 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 新規なフルオレニル化合物及びその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-116375   出願人：フイリツプスピトローリアムカンパニー