水処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：野河信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-371708
公開番号（公開出願番号）：特開2003-170193
出願日： 2001年12月05日
公開日（公表日）： 2003年06月17日
要約：

【要約】【課題】工業用水の循環水の流路において、スケールの付着による伝熱の阻害や流量の低下等の障害の発生を防止する水処理方法を提供する。【解決手段】工業循環水の循環水の流路に有機ホスホン酸系スケール防止剤を添加してスケール成分の発生・付着を防止する方法において、前記循環水の循環流路の少なくとも一部に磁界を印加して行うことを特徴とする水処理方法。

請求項（抜粋）：

工業循環水の循環水の流路に有機ホスホン酸系スケール防止剤を添加してスケール成分の発生・付着を防止する方法において、前記循環水の循環流路の少なくとも一部に磁界を印加して行うことを特徴とする水処理方法。

IPC (7件)：

C02F 5/14 , C02F 1/48 , C02F 5/00 610 , C02F 5/00 , C02F 5/00 620 , C02F 5/10 610 , C02F 5/12

FI (11件)：

C02F 5/14 A , C02F 5/14 B , C02F 5/14 C , C02F 5/14 D , C02F 5/14 E , C02F 1/48 A , C02F 5/00 610 A , C02F 5/00 610 G , C02F 5/00 620 B , C02F 5/10 610 A , C02F 5/12

Fターム (10件)：

4D061DA05 , 4D061DB05 , 4D061DC19 , 4D061EA18 , 4D061EC01 , 4D061EC05 , 4D061EC11 , 4D061ED20 , 4D061FA13 , 4D061FA14

引用特許：

出願人引用 (11件)

物理的水処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-018225 出願人：株式会社日本製鋼所
微粒子の製造方法と装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-228624 出願人：エスケーエイ株式会社
電磁場処理水を製造・供給する装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-059899 出願人：有限会社フレッシュテック

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