特許
J-GLOBAL ID：200903038631485580
流体圧力インプリント・リソグラフィ
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (11件)：
岡部 正夫
, 加藤 伸晃
, 産形 和央
, 臼井 伸一
, 藤野 育男
, 越智 隆夫
, 本宮 照久
, 高梨 憲通
, 朝日 伸光
, 高橋 誠一郎
, 吉澤 弘司
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-513006
公開番号（公開出願番号）：特表2004-504718
出願日： 2001年07月02日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：
インプリント・リソグラフィの改良型方法には、基板に支持された薄膜に型を押し込むための直接流体圧力を使用する工程が含まれている(A)。有利には、型および/または基板は十分に柔軟であり、流体圧力の下で広範囲の接触を提供している(C)。流体による押込みは、薄膜に型を封じ込み、それによって得られるアセンブリを加圧チャンバ内に配置することによって実現される。また、流体による押込みは、型を加圧流体の噴流にさらすことによっても実現することができる。この流体による押込みの結果、解像度が向上し、かつ、広範囲にわたる高度な均一性が得られる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板の表面に成形可能層を塗布する工程と、
複数の突出フィーチャを有する成形表面を備えた型を提供する工程と、
直接流体圧力によって成形表面および成形可能層を共に押し付け、突出フィーチャの下側の成形可能層の厚さを薄くし薄くなった領域を生成する工程と、
成形可能層から型を取り去る工程とを含む、基板の表面を処理するための方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (1件)：
引用特許：
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