特許

J-GLOBAL ID：200903038653708907

レジスト剥離廃液の再生装置及び再生方法

発明者： 小川 修 ,  小早川 泰之 ,  北川 悌也 ,  菊川 誠 ,  兼康 貴行
出願人/特許権者： 長瀬産業株式会社 ,  日本アブコー株式会社 ,  ナガセシィエムエステクノロジー株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-365033
公開番号（公開出願番号）：特開2003-167358
出願日： 2001年11月29日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
要約：

【要約】【課題】 レジスト剥離廃液の再生時におけるアルカノールアミン及び有機溶媒の供給量を十分低減できるレジスト剥離廃液の再生装置及び方法を提供すること。【解決手段】 本発明は、レジスト剥離廃液を再生しレジスト剥離再生液を得るレジスト剥離廃液の再生装置であって、分画分子量100〜1500の膜を有しレジスト剥離廃液を上記膜を用いて濃縮液と透過液に分離する膜分離装置7、透過液を貯留し、アルカノールアミン、有機溶媒の濃度を調整する調整槽17、調整槽17にアルカノールアミンを供給する手段18、調整槽17に有機溶媒を供給する手段22を備える。この場合、レジスト剥離廃液中のレジストが膜を透過できず、透過液中のレジスト濃度は十分に低減される。従って、レジスト濃度を希釈する必要性が低くなり、調整槽17へのアルカノールアミン、有機溶媒の供給量を十分低減できる。

請求項（抜粋）：

アルカノールアミン、有機溶媒およびレジストを含有するレジスト剥離廃液を再生するレジスト剥離廃液の再生装置であって、分画分子量100〜1500の膜を有し、前記レジスト剥離廃液を、前記膜を用いて濃縮液と透過液とに分離する膜分離装置と、前記透過液を貯留し、前記透過液中のアルカノールアミン及び有機溶媒の濃度を調整するための濃度調整槽と、前記濃度調整槽にアルカノールアミンを供給するアルカノールアミン供給手段と、前記濃度調整槽に有機溶媒を供給する有機溶媒供給手段と、を備えることを特徴とするレジスト剥離廃液の再生装置。

IPC (3件)：

G03F 7/42 ,  B01D 61/14 500 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/42 ,  B01D 61/14 500 ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (21件)：

2H096AA25 ,  2H096LA03 ,  2H096LA25 ,  2H096LA30 ,  4D006GA06 ,  4D006KA12 ,  4D006KA63 ,  4D006KA87 ,  4D006MA02 ,  4D006MA04 ,  4D006MA06 ,  4D006MB05 ,  4D006MC39 ,  4D006MC62 ,  4D006PA01 ,  4D006PA04 ,  4D006PB08 ,  4D006PB70 ,  4D006PC01 ,  5F046MA02 ,  5F046MA19

引用特許：

審査官引用 (3件)

• フォトレジスト現像廃液の再生処理方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-010025   出願人：オルガノ株式会社
• 特許第2602179号
  
• 特許第2602179号