特許
J-GLOBAL ID:200903038685313190
非晶質導電膜のパターニング方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中村 静男 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-020604
公開番号(公開出願番号):特開平8-217578
出願日: 1995年02月08日
公開日(公表日): 1996年08月27日
要約:
【要約】【目的】 微細なパターンを形成することが容易な非晶質導電膜のパターニング方法を提供する。【構成】 本発明の非晶質導電膜のパターニング方法は、非晶質導電膜を、硼酸系溶液からなるエッチング液と接触させて選択的にエッチングすることによりパターニングすることを特徴とする。
請求項(抜粋):
非晶質導電膜を、硼酸系溶液からなるエッチング液と接触させて選択的にエッチングすることによりパターニングすることを特徴とする非晶質導電膜のパターニング方法。
IPC (6件):
C04B 41/91
, C23C 14/08
, C23C 14/34
, H01B 13/00 503
, H01B 13/00
, G09F 9/30 339
FI (6件):
C04B 41/91 B
, C23C 14/08 D
, C23C 14/34 K
, H01B 13/00 503 B
, H01B 13/00 503 D
, G09F 9/30 339 Z
引用特許: