特許
J-GLOBAL ID：200903038716266632
収差による位置ずれ及びディストーションの計測方法と装置並びにレチクル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 朝道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-123688
公開番号（公開出願番号）：特開2000-315642
出願日： 1999年04月30日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：
【要約】【課題】レンズ収差の中の像点の位置ずれ成分をディストーションだけでなくコマ収差による像点の位置ずれを含めて自動的に計測可能にとする方法及び装置の提供。【解決手段】相対的に大きなパターンが複数個配置されて第1の回折格子をなす主尺と、所定ピッチのライン・アンド・スペースパターンが複数個配置されて第2の回折格子をなし、前記各ライン・アンド・スペースの配列が前記第2の回折格子の向きと直交する副尺とを含むパターンを含むマスクを用いて感光基板を露光・現像し、前記二つの回折格子が形成された感光基板上の二つの回折格子の間隔を、回折可能な波長及びコヒーレンシーを持つコヒーレント光を用いて走査し、前記二つの回折格子の間隔を計測することでレンズのコマ収差による像点の位置ずれ成分を含むディストーションを計測する。
請求項（抜粋）：
レンズの収差による像点の位置ずれを含むディストーションを計測する方法であって、互いに並設されそれぞれ第1、第2の回折格子パターンを形成するための主尺と副尺とを少なくとも有するマスクであって、前記主尺は、相対的に大きな単位パターンより形成されており、前記副尺は、配列方向が前記第2の回折格子の向きと直交し所定のピッチで複数本配列されてなる微細パターンを単位パターンとし該単位パターンが複数個配列されて形成されてなるマスクを用い、前記レンズを介して前記マスクの前記第1、第2の回折格子パターンを感光基板に投影し、前記感光基板に形成された前記第1、及び第2の回折格子の間隔を回折可能な波長のコヒーレント光を用いて走査して前記第1、第2の回折格子の間隔を計測することで、前記レンズの収差による像点の位置ずれ成分を含むディストーションを計測する、ことを特徴とするディストーション計測方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G01M 11/02
, G03F 1/08
H01L 21/30 516 A
, G01M 11/02 B
, G03F 1/08 M
, H01L 21/30 515 F
2G086HH06
, 2H095BA02
, 2H095BE06
, 2H095BE08
, 2H095BE09
, 5F046AA25
, 5F046BA03
, 5F046CB17
, 5F046DA13
, 5F046DB05
, 5F046DC10
