特許

J-GLOBAL ID：200903038831537771

窒素含有汚水の処理装置

発明者： 和泉 清司 ,  山田 豊 ,  上坂 太一 ,  川上 進
出願人/特許権者： 株式会社クボタ
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-242391
公開番号（公開出願番号）：特開2001-062471
出願日： 1999年08月30日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：

【要約】【課題】 生物学的脱窒を安定して行なうことができる窒素含有汚水の処理装置を提供する。【解決手段】 窒素含有汚水1が流入する流量調整槽5と浸漬型膜分離装置6を浸漬する曝気槽7とを越流堰8を介して連通し、流量調整槽5と曝気槽7を連通する送液管路9に流量調整槽5の槽内液を曝気槽7へ供給するポンプ10を介装し、流量調整槽5の液位を計測する液位計11を設け、液位計11の計測値に基づいてポンプ10の運転を制御する制御装置12を設け、制御装置12は、液位計11の計測値が高くなるに比例してポンプ吐出量を増加させる比例制御回路を有する。

請求項（抜粋）：

窒素含有汚水が流入する流量調整槽と浸漬型膜分離装置を浸漬する曝気槽とを越流堰を介して連通し、流量調整槽と曝気槽を連通する送液管路に流量調整槽の槽内液を曝気槽へ供給するポンプを介装し、流量調整槽の液位を計測する液位計を設け、液位計の計測値に基づいてポンプの運転を制御する制御装置を設け、制御装置は、液位計の計測値が高くなるに比例してポンプ吐出量を増加させる比例制御回路を有することを特徴とする窒素含有汚水の処理装置。

IPC (3件)：

C02F 3/00 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/12

FI (4件)：

C02F 3/00 F ,  C02F 1/44 K ,  C02F 3/12 S ,  C02F 3/12 H

Fターム (25件)：

4D006GA02 ,  4D006HA42 ,  4D006HA91 ,  4D006HA93 ,  4D006JA31A ,  4D006JA53A ,  4D006JA67A ,  4D006KA02 ,  4D006KA12 ,  4D006KA43 ,  4D006KB22 ,  4D006KE02Q ,  4D006KE21P ,  4D006KE21Q ,  4D006KE23Q ,  4D006MA03 ,  4D006PB08 ,  4D006PC62 ,  4D027AA14 ,  4D027BA04 ,  4D027BA13 ,  4D028BC17 ,  4D028BD17 ,  4D028CA01 ,  4D028CD05

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 浄化槽
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-260576   出願人：株式会社クボタ
• 特開平2-259296
  
• 水位制御方法および水位制御装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-324703   出願人：日新電機株式会社
• 特開昭57-069320