特許
J-GLOBAL ID：200903038832378626
磁気ヘッドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-336254
公開番号（公開出願番号）：特開平7-050004
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：
【要約】【構成】 酸化物磁性材料よりなる磁気コア基板の一主面に磁気ギャップのトラック幅を規制するトラック幅規制溝を形成し、前記トラック幅規制溝が形成された磁気コア基板上に金属磁性薄膜を被着形成し、磁気コア基板上の金属磁性薄膜の表面を鏡面加工し、一対の磁気コア基板を前記鏡面加工した金属磁性薄膜同士が対向するようにギャップ材を介して接合一体化する。なお、上記鏡面加工を行う際、スラリーとして、油性スラリー、或いはSiO2 系研磨材と、増粘剤を20容量%以上,50容量%以下含有するスラリーを用いても良い。【効果】 磁気ヘッドの磁気ギャップのエッジ部からの漏洩磁界が小さくなり、サイドイレーズの発生が抑えられ、再生特性が良好となり、生産性も大きく向上する。また、このようなことから上記磁気ヘッドを用いれば高密度記録化が達成される。
請求項（抜粋）：
酸化物磁性材料よりなる磁気コア基板の一主面に磁気ギャップのトラック幅を規制するトラック幅規制溝を形成する工程と、前記トラック幅規制溝が形成された磁気コア基板上に金属磁性薄膜を被着形成する工程と、磁気コア基板上の金属磁性薄膜の表面を鏡面加工する工程と、一対の磁気コア基板を前記鏡面加工した金属磁性薄膜同士が対向するようにギャップ材を介して接合一体化する工程を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
IPC (3件)：
G11B 5/127
, G11B 5/187
, G11B 5/23
