特許

J-GLOBAL ID：200903038858488438

投影露光装置

発明者： 川久保 昌治
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-138490
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349708
出願日： 1993年06月10日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：

【要約】【目的】 オフ・アクシス方式のアライメントセンサーを備えた投影露光装置において、ウエハ上のアライメントマークの位置を高精度に検出し、ウエハの露光面にレチクルのパターン像を投影光学系を介して高い解像度で露光する。【構成】 オフ・アクシスのアライメントセンサー27でウエハW上のウエハマークの位置を検出し、この結果に基づいてアライメントを行って、レチクルRのパターンを投影光学系16を介してウエハW上のショット領域に投影する。環境センサーにより大気圧の変化量を計測し、この計測結果から投影光学系16の結像面53及びアライメントセンサー27のベストフォーカス位置の面54を求め、AFセンサー42a,42bを用いて、アライメント時と露光時とでフォーカス位置を独立に設定する。

請求項（抜粋）：

マスク上のパターンを感光性の基板上の各露光領域に投影する投影光学系と、該投影光学系の光軸に垂直な面内で前記基板の位置決めを行う基板側ステージと、前記投影光学系から所定間隔だけ離して配設されたオフ・アクシスのマーク検出系とを有し、前記基板上に形成された位置合わせ用のマークの位置を前記マーク検出系により検出し、該検出されたマークの位置に基づいて前記基板側ステージを介して前記基板上の各露光領域と前記マスクとの位置合わせを行う投影露光装置において、前記基板の前記投影光学系の光軸に平行な方向の位置決めを行う高さ調整手段と、前記基板上に前記投影光学系の光軸に斜めに位置検出用の光束を照射することにより、前記基板の前記投影光学系の光軸に平行な方向のフォーカス位置を計測するフォーカス位置検出手段と、前記投影光学系を通過する照明光の積算光量を求める積算光量検出手段と、前記投影光学系及び前記オフ・アクシスのマーク検出系の周囲の環境状態を計測する環境状態計測手段と、該環境状態計測手段により計測された環境状態の変化量及び前記積算光量検出手段の検出結果に応じて、前記投影光学系の像面位置のオフセット量及び前記マーク検出系のベストフォーカス位置のオフセット量を求めるオフセット演算手段と、を有し、前記基板上の前記位置合わせ用のマークの位置を前記マーク検出系で検出する際、及び前記基板上の各露光領域に前記投影光学系を介して前記マスクのパターンを露光する際に、前記オフセット演算手段により求められたオフセット量及び前記フォーカス位置検出手段により計測されたフォーカス位置に基づいて、それぞれ前記高さ調整手段を介して前記基板の前記投影光学系の光軸に平行な方向の位置を独立に設定することを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-161832
  
• 特開昭63-058349
  
• オートフオーカス機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-173673   出願人：三菱電機株式会社