多層膜の形成装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：北村欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-289881
公開番号（公開出願番号）：特開平5-125520
出願日： 1991年11月06日
公開日（公表日）： 1993年05月21日
要約：

【要約】【目的】基板上に高分子膜材の原料モノマーから一工程で高分子膜を形成出来て、金属膜との多層膜を容易に能率よく形成させる形成装置。【構成】真空室内に高分子膜の原料モノマーの蒸発源または外部蒸発源からの蒸発口と金属材の金属材蒸発源を夫々独立状態に配置し、これら蒸発源と多層膜が形成される基板とを対向状態に配置し、基板上に高分子膜を形成させる際、基板に蒸着した高分子膜材の原料モノマーを蒸着と同時に重合および高分子化させ得るように基板および高分子膜材蒸発源または蒸発口を囲繞する周壁にこれらを高分子化可能温度に加熱出来る加熱装置を備えた多層膜の形成装置。

請求項（抜粋）：

真空室内に高分子膜の原料モノマーを蒸発させる高分子膜材蒸発源または外部蒸発源からの蒸発口および金属材を蒸発させる金属蒸発源と、高分子膜材蒸発源または蒸発口からの原料モノマーと金属材蒸発源からの金属材の蒸着で多層膜が形成される基板とを互いに対向して配置した多層膜の形成装置であって、真空室内に隔壁を配設して独立室を設け、夫々の独立室内に高分子膜材蒸発源または蒸発口、金属材蒸発源のいずれかを配置し、基板および少なくとも高分子膜材蒸発源が配置された周壁に高分子膜の原料モノマーを高分子化可能温度に加熱する加熱装置を備えたことを特徴とする多層膜の形成装置。

IPC (2件)：

C23C 14/06 , C23C 14/24

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開昭58-220244
特開平1-244602
特開昭60-191435

全件表示

前のページに戻る