垂直検出装置と水平検出装置と照明光学装置およびそれらを用いた露光装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小鍜治明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-258175
公開番号（公開出願番号）：特開平7-115047
出願日： 1993年10月15日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：

【要約】【目的】基板の局所的な反射率の違い、基板上の微細パターンによる回折光の混入、及び局所的な基板面のうねり等による測定精度の劣化のない合焦装置と、部分的なスペックルの発生を抑え、より均一な照明光強度分布を有する照明光学系とを実現した露光装置を提供することを目的とする。【構成】本発明の露光装置は、レチクルに描かれた露光するパターンを縮小して基板に転写するために投影する投影レンズと、レーザ光源からの出射光を露光に適した露光光に矯正する照明光学系と、レチクル及び基板をそれぞれ搭載移動するステージと、レチクルと基板の位置合わせを行うアライメント機構からなる。また、合焦装置はレチクルの投影レンズによる縮小像面と基板面を平行に配置するため、投影レンズの焦点位置に対する基板の位置を測定する垂直検出装置と投影レンズの光軸に対する基板表面の角度を測定する水平検出装置から成る。

請求項（抜粋）：

第1の物体に描画されたパターンを第2の物体に転写する装置において、第1の物体に設けられたレンズとして作用する光学素子と、露光光とは波長の異なるアライメント光を出射し上記光学素子を照明する光源と、上記光学素子を通過し第2の物体を経由して得られるアライメント光を検出する複数の検出光学系と、上記複数の検出光学系の出力を比較する手段と、上記比較手段からの信号を基に第2の物体の位置を調整する手段とを備えた垂直検出装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 505 , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭63-220521
投影型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-017524 出願人：株式会社ニコン
照明装置及びそれを用いた投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-360795 出願人：キヤノン株式会社

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