特許

J-GLOBAL ID：200903039050615390

シリカ製細管およびその製造方法

発明者： 中村 英則 ,  後藤 孝夫 ,  松井 靖
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 矢口 平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-028851
公開番号（公開出願番号）：特開平8-188409
出願日： 1995年01月25日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：

【要約】【目的】 ゾルゲル法により高純度で半導体用材料、生体内部材またはプラスチック等の複合材の充填材、補強材並びに触媒担体として有用なシリカゲルおよびシリカガラスの細管を提供する。【構成】 酒石酸または/および酒石酸塩またはクエン酸または/およびクエン酸塩の存在下で、水溶性アルコール中でテトラアルコキシシランを加水分解して造られた細管。

請求項（抜粋）：

シリカゲルから構成されていることを特徴とする細管。

IPC (4件)：

C01B 33/152 ,  C03B 8/02 ,  C03B 20/00 ,  C03C 3/06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭56-169121
  
• 特開昭62-003011
  
• シリカゲルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-065629   出願人：工業技術院長, 多木化学株式会社
• オキシカルボン酸類-シリカ複合体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-234135   出願人：工業技術院長, 坂口謙吾, 富士化学工業株式会社, 多木化学株式会社