特許

J-GLOBAL ID：200903039053367177

超純水の製造方法及び装置

発明者： 知野 秀一 ,  野口 幸男
出願人/特許権者： 野村マイクロ・サイエンス株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-419233
公開番号（公開出願番号）：特開2005-177564
出願日： 2003年12月17日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：

【課題】超純水製造プロセスにおいて、ホウ素イオン濃度を低くするとともに、アニオン交換樹脂又は混床式イオン交換樹脂装置の再生頻度を少なくしてメンテナンスコストを低減させること。【解決手段】超純水製造システムにおけるアニオン交換装置又は混床式イオン交換装置の前段に熱交換器を配置し、前記アニオン交換装置又は混床式イオン交換装置に通水する被処理水の水温を25°C以下、好ましくは20°C以下に制御する。 水温の低下により、ホウ素イオンの流出までの時間が延び、再生サイクルを長くすることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

超純水製造システムにおけるアニオン交換装置又は混床式イオン交換装置の前段に熱交換器を配置し、前記アニオン交換装置又は混床式イオン交換装置に通水する被処理水の水温を25°C以下に制御することを特徴とする超純水の製造方法。

IPC (6件)：

C02F1/42 ,  B01D19/00 ,  B01D61/08 ,  B01J47/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/44

FI (6件)：

C02F1/42 B ,  B01D19/00 Z ,  B01D61/08 ,  B01J47/04 Z ,  C02F1/20 A ,  C02F1/44 J

Fターム (32件)：

4D006GA03 ,  4D006KA01 ,  4D006KA03 ,  4D006KA72 ,  4D006KB11 ,  4D006KB17 ,  4D006KD17 ,  4D006KE15Q ,  4D006KE16Q ,  4D006PB06 ,  4D006PC02 ,  4D006PC43 ,  4D011AA11 ,  4D011AA20 ,  4D011AC10 ,  4D011AD10 ,  4D025AA04 ,  4D025AB05 ,  4D025BA08 ,  4D025BA13 ,  4D025BB02 ,  4D025BB04 ,  4D025CA03 ,  4D025CA08 ,  4D025DA01 ,  4D025DA05 ,  4D037AA02 ,  4D037AB11 ,  4D037BA23 ,  4D037CA03 ,  4D037CA14 ,  4D037CA15

引用特許：

出願人引用 (1件)

• リードレスハイブリッドIC
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-137503   出願人：株式会社富士通ゼネラル