特許

J-GLOBAL ID：200903039072937235

プラズマ処理装置およびスパッタ装置

発明者： 蛇口 広行 ,  笠間 泰彦 ,  大見 忠弘 ,  小野 昭一
出願人/特許権者： 株式会社フロンテック ,  大見 忠弘 ,  アルプス電気株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-270187
公開番号（公開出願番号）：特開平11-111620
出願日： 1997年10月02日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：

【要約】【課題】 装置設計上の制約が少なく、しかも、装置の小型化が可能なマイクロ波を用いたプラズマ処理装置およびスパッタ装置を提供する。【解決手段】 本プラズマ処理装置は、マイクロ波11を透過し得る材料からなるガラス基板1を収容するチャンバー2と、チャンバー2内に処理用ガス4を供給するガス供給手段3と、マイクロ波11を透過し得る石英材料からなり、チャンバー2の一部を構成してガラス基板1を保持する底板7と、チャンバー2内でプラズマ9を生成させるためのマイクロ波11を底板7およびガラス基板1を通して供給するラジアルラインスロットアンテナ8とを具備している。

請求項（抜粋）：

マイクロ波を透過し得る材料からなる被処理物を収容するチャンバーと、該チャンバー内に処理用ガスを供給するガス供給手段と、マイクロ波を透過し得る材料からなり、前記チャンバーに設けられて前記被処理物を保持する被処理物保持部と、前記チャンバー内でプラズマを生成させるためのマイクロ波を、前記被処理物保持部および被処理物を通して供給するマイクロ波供給手段と、を具備したことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/205 ,  C23C 14/40 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (7件)：

H01L 21/205 ,  C23C 14/40 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラズマ発生電極装置およびプラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-165624   出願人：日本碍子株式会社
• 特開平3-262119