感光性組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：宮▲崎▼主税 , 目次誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-016233
公開番号（公開出願番号）：特開2007-199252
出願日： 2006年01月25日
公開日（公表日）： 2007年08月09日
要約：

【課題】例えば半導体素子の層間絶縁膜等を形成するのに用いられ、感光性を有し、架橋剤を用いることなく現像が可能であり、かつ例えば感光性組成物を基材に塗工した後、露光して現像する際に、架橋後の感光性組成物が基材から剥離することなくパターンを形成することが可能な感光性組成物を提供する。【解決手段】式(1)で表されるシラン化合物の加水分解物および/又は前記加水分解物の縮合物からなる成分(A)と、加水分解性金属化合物(B)と、光線若しくは放射線の照射により酸または塩基を発生する化合物(C)とを含有する、感光性組成物。 (R1)pSi(X)4-p・・・式(1)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表されるシラン化合物の加水分解物および/又は前記加水分解物の縮合物からなる成分(A)と、加水分解性金属化合物(B)と、光線若しくは放射線の照射により酸または塩基を発生する化合物(C)とを含有することを特徴とする、感光性組成物。 (R1)pSi(X)4-p・・・式(1) 上記式(1)中、R1は炭素数が1〜30である非加水分解性の有機基を表し、Xは加水分解性基を表し、pは0〜3の整数を表す。pが2又は3であるとき、複数のR1は同一であってもよく異なっていてもよい。pが0〜2の整数であるとき、複数のXは同一であってもよく異なっていてもよい。

IPC (3件)：

G03F 7/075 , G03F 7/004 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F7/075 521 , G03F7/075 501 , G03F7/004 501 , G03F7/004 503Z , H01L21/30 502R

Fターム (13件)：

2H025AA04 , 2H025AA10 , 2H025AA13 , 2H025AA14 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025CB33 , 2H025CC06 , 2H025CC20

引用特許：

出願人引用 (1件)

パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-074986 出願人：株式会社日立製作所

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