特許
J-GLOBAL ID：200903039112584381

枚葉式の熱処理装置

発明者：
大加瀬 亘

大加瀬 亘 について

, 
長谷井 雅昭

長谷井 雅昭 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-304782
公開番号（公開出願番号）：特開2000-124211
出願日： 1998年10月12日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：
【要約】【課題】 構造を複雑化したり、コストを高騰させることなく簡単な構造で、被処理体の温度の面内均一性を向上させることができる枚葉式の熱処理装置を提供する。【解決手段】 真空引き可能になされた処理容器4内で、加熱ヒータ24を内部に有する載置台16上に載置した被処理体Wに対して所定の熱処理を施す枚葉式の熱処理装置において、前記載置台の裏面の周縁部に、この周縁部より外方へ逃げる熱を補償するための熱補償部材66を設けるように構成する。これにより、構造を複雑化したり、コストを高騰させることなく簡単な構造で、被処理体の温度の面内均一性を向上させる。
請求項（抜粋）：
真空引き可能になされた処理容器内で、加熱ヒータを内部に有する載置台上に載置した被処理体に対して所定の熱処理を施す枚葉式の熱処理装置において、前記載置台の裏面の周縁部に、この周縁部より外方へ逃げる熱を補償するための熱補償部材を設けるように構成したことを特徴とする枚葉式の熱処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/31 ,  F27D 5/00 ,  F27D 7/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501
FI (5件)：
H01L 21/31 E ,  F27D 5/00 ,  F27D 7/02 A ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 A
Fターム (33件)：
4K055AA06 ,  4K055NA04 ,  4K063AA05 ,  4K063AA12 ,  4K063AA16 ,  4K063BA12 ,  4K063CA03 ,  4K063DA06 ,  4K063DA13 ,  4K063DA19 ,  4K063DA32 ,  4K063DA33 ,  5F045AA11 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045AD10 ,  5F045AD11 ,  5F045AE21 ,  5F045AE23 ,  5F045AE25 ,  5F045AF07 ,  5F045BB02 ,  5F045BB16 ,  5F045DP03 ,  5F045EB02 ,  5F045EB03 ,  5F045EC03 ,  5F045EF05 ,  5F045EK09 ,  5F045EK21 ,  5F045EM05 ,  5F045EM10
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 熱処理方法および装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-119899   出願人：株式会社日立製作所
  • 気相成長装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-336081   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社, 株式会社日立製作所

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