特許
J-GLOBAL ID:200903039272276969
イオン性高分子化合物の精製方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
細田 芳徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-180855
公開番号(公開出願番号):特開2000-007727
出願日: 1998年06月26日
公開日(公表日): 2000年01月11日
要約:
【要約】【課題】イオン性高分子化合物からより短時間でイオン性の残存単量体などのイオン性高分子化合物と同符号に帯電する低分子量不純物を効率良く除去するイオン性高分子化合物の精製方法を提供すること。【解決手段】(A)イオン性高分子化合物と、イオン性の残存単量体などのイオン性高分子化合物と同符号に帯電する低分子量不純物とを含有する水溶液を、イオン性高分子化合物の濃度が7〜20重量%かつ水溶液中のイオン性高分子化合物の電荷量が0.30g当量/L以上の条件下で、限外濾過膜及び/又は逆浸透膜を用いて低分子量不純物を除去した膜分離液を得る工程、(B)工程(A)で得られた膜分離液を活性炭と接触処理させた後、活性炭を分離し、活性炭処理液を得る工程、及び(C)工程(B)で得られた活性炭処理液をイオン交換樹脂と接触処理させる工程を有するイオン性高分子化合物の精製方法。
請求項(抜粋):
以下の(A)〜(C)工程を有するイオン性高分子化合物の精製方法:(A)イオン性高分子化合物と、イオン性の残存単量体などの該イオン性高分子化合物と同符号に帯電する低分子量不純物とを含有する水溶液を、イオン性高分子化合物の濃度が7〜20重量%かつ該水溶液中のイオン性高分子化合物の電荷量が0.30g当量/L以上の条件下で、限外濾過膜及び/又は逆浸透膜を用いて該低分子量不純物を除去した膜分離液を得る工程、(B)工程(A)で得られた膜分離液を、活性炭と接触処理させた後、活性炭を分離し、活性炭処理液を得る工程、及び(C)工程(B)で得られた活性炭処理液をイオン交換樹脂と接触処理させる工程。
IPC (3件):
C08F 6/06
, B01D 61/02 500
, B01D 61/14 500
FI (3件):
C08F 6/06
, B01D 61/02 500
, B01D 61/14 500
Fターム (45件):
4D006GA03
, 4D006GA06
, 4D006HA21
, 4D006HA41
, 4D006HA61
, 4D006KA72
, 4D006KA90
, 4D006KB11
, 4D006KB12
, 4D006KD19
, 4D006MC03X
, 4D006MC04X
, 4D006MC29X
, 4D006MC30X
, 4D006MC33X
, 4D006MC62X
, 4J100AB07P
, 4J100AJ02P
, 4J100AJ08P
, 4J100AJ09P
, 4J100AK01P
, 4J100AK18P
, 4J100AK31P
, 4J100AK32P
, 4J100AL08P
, 4J100AM21P
, 4J100AP07P
, 4J100AQ12P
, 4J100BA31P
, 4J100BA32P
, 4J100BA56P
, 4J100BA67P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100CA27
, 4J100CA31
, 4J100HA31
, 4J100HB25
, 4J100HB39
, 4J100HB43
, 4J100HB52
, 4J100HC27
, 4J100HC28
, 4J100HC45
, 4J100JA16
引用特許:
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