ナノ粒子の生成および堆積方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：三好秀和 , 伊藤正和 , 原裕子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-158187
公開番号（公開出願番号）：特開2008-012658
出願日： 2007年06月15日
公開日（公表日）： 2008年01月24日
要約：

【課題】本発明は、固体ターゲット材料の超高速パルスレーザ融除を利用して、選択したサイズのナノ粒子を生成し、これを基板表面上に堆積させるためのワンステップ工程を提供する。【解決手段】このシステムはパルスレーザ、光学系、及び真空室を含む。パルスレーザは数フェムト秒から数十ピコ秒までの多様なパルス時間を有する。光学系は、ビームを適切な平均エネルギー密度および適切なエネルギー密度分布にてターゲット表面上に集束できるようにレーザビームを成形する。真空室の内部にはターゲットと基板が設置され、バックグラウンドガスとその圧力が適切に調整される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

材料の超高速パルスレーザアブレーションを行うための超高速パルスレーザを使用して、ナノ粒子、メソ粒子、又はこれらの混合物を生成し堆積させる方法であって、前記レーザのフルエンスを制御することで、前記混合物中のナノ粒子とメソ粒子の相対比率を制御することを特徴とする方法。

IPC (6件)：

B82B 3/00 , C01B 13/14 , C01G 51/04 , C01G 53/04 , H01S 3/00 , C23C 14/28

FI (6件)：

B82B3/00 , C01B13/14 Z , C01G51/04 , C01G53/04 , H01S3/00 B , C23C14/28

Fターム (23件)：

4G042DA01 , 4G042DB01 , 4G042DB08 , 4G042DB16 , 4G042DB35 , 4G042DD02 , 4G042DD04 , 4G042DD13 , 4G042DE02 , 4G042DE03 , 4G042DE12 , 4G048AA02 , 4G048AB01 , 4G048AD02 , 4G048AD03 , 4G048AE05 , 4K029AA22 , 4K029BA51 , 4K029CA01 , 4K029DB05 , 4K029DB20 , 4K029DD06 , 5F172ZZ01

引用特許：

出願人引用 (5件)

米国特許出願公開第2006/0049034号明細書
米国特許出願公開第2006/0049547号明細書
欧州特許出願公開第1308418号明細書

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引用文献：

審査官引用 (5件)

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