特許
J-GLOBAL ID:200903039308966371

希土類磁石及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  青木 博昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-105008
公開番号(公開出願番号):特開2006-210864
出願日: 2005年03月31日
公開日(公表日): 2006年08月10日
要約:
【課題】十分な耐食性を有する希土類磁石及びその製造方法を提供すること。【解決手段】希土類元素を含有する磁石素体を熱処理して、当該磁石素体の表面上に保護層を形成する希土類磁石の製造方法であって、磁石素体を覆い希土類元素を含有する第一の層及び当該第一の層を覆い希土類元素を実質的に含有しない第二の層を保護層が有するように、酸化性ガスを含有する酸化性雰囲気中で、酸化性ガス分圧、処理温度及び処理時間のうちの少なくとも1つの条件を調整して、磁石素体を熱処理することを特徴とする希土類磁石の製造方法。【選択図】図2
請求項(抜粋):
希土類元素を含有する磁石素体を熱処理して、当該磁石素体の表面上に保護層を形成する希土類磁石の製造方法であって、 前記磁石素体を覆い希土類元素を含有する第一の層及び当該第一の層を覆い希土類元素を実質的に含有しない第二の層を前記保護層が有するように、酸化性ガスを含有する酸化性雰囲気中で、酸化性ガス分圧、処理温度及び処理時間のうちの少なくとも1つの条件を調整して、前記磁石素体を熱処理することを特徴とする希土類磁石の製造方法。
IPC (1件):
H01F 41/02
FI (1件):
H01F41/02 G
Fターム (2件):
5E062CD04 ,  5E062CG07
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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