特許

J-GLOBAL ID：200903039321554317

断層映像装置

発明者： 藤田 寛
出願人/特許権者： フジノン株式会社
代理人 (1件)： 川野 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-317841
公開番号（公開出願番号）：特開2005-083954
出願日： 2003年09月10日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：

【目的】被検体深さが大きくなるのに従い観察位置からの反射光強度が低下し、これによる干渉波情報量の低下が生じるが、この低下を緩和するべく、参照ミラーの移動位置に応じて光源光強度を変化させることで、1つの断層映像において、被検体深さに拘わらず同様の明るさレベルとし、特に深い部分についての状態判断を誤る危険性を低減する。【構成】被検体31の観察位置の深さが大となるのに伴う被検体31の観察位置からの反射光強度の低下を緩和するように、参照ミラー42の移動位置に応じて光源10から出力光強度を変化させる制御部1を設けている。制御部1は、この光源光強度制御テーブルに基づき、被検体31の深さ位置に相当する参照ミラー42の移動位置に応じて、光源10の強度を指数関数的に変化させる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

低可干渉性を有する光ビームを出射する光源と、 該光源から出射された光ビームを2分し、一方を被検体に照射するとともに、他方を参照ミラーに照射し、該被検体および該参照ミラーから各々反射された光ビームを干渉せしめて、該干渉による光強度分布を光検出器により得るようにした等光路長型干渉計とを備え、 該被検体の深さ方向の干渉波情報を得ることができるように該参照ミラーを該参照ミラーの光軸方向に移動可能とされた断層映像装置において、 該被検体の観察位置の深さが大きくなるのに伴う該観察位置からの反射光量の低下による干渉波情報量の低下を緩和するように、該参照ミラーの移動位置に応じて前記光源から出力される光ビームの強度を変化させる光源光強度制御部を備えてなることを特徴とする断層映像装置。

IPC (6件)：

G01N21/17 ,  A61B1/00 ,  A61B10/00 ,  G01B9/02 ,  G01N21/35 ,  G02B7/28

FI (6件)：

G01N21/17 620 ,  A61B1/00 300D ,  A61B10/00 E ,  G01B9/02 ,  G01N21/35 Z ,  G02B7/11 H

Fターム (40件)：

2F064AA15 ,  2F064EE01 ,  2F064FF02 ,  2F064GG02 ,  2F064GG12 ,  2F064GG65 ,  2F064HH03 ,  2G059AA05 ,  2G059AA06 ,  2G059BB12 ,  2G059CC16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG10 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ02 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ15 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059JJ25 ,  2G059KK01 ,  2G059LL01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM09 ,  2G059MM10 ,  2G059PP04 ,  2H051AA00 ,  2H051BB31 ,  4C061AA00 ,  4C061BB00 ,  4C061CC06 ,  4C061DD00 ,  4C061GG01 ,  4C061HH51 ,  4C061JJ11 ,  4C061SS21

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 光イメージング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-115399   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 相反光学素子を用いた光コヒーレンス領域反射測定法および光コヒーレンス断層撮影法のための干渉計
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-570524   出願人：イザット,ジョセフエイ., ローリンズ,アンドリューエム.
• 散乱光の三次元分布を記録する方法及び装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-549904   出願人：レーザー・ディアグノスティック・テクノロジーズ・インコーポレイテッド