特許
J-GLOBAL ID：200903039334624586

化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者：
末次 益実

末次 益実 について

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山田 愛理

山田 愛理 について

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上谷 保則

上谷 保則 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-051036
公開番号（公開出願番号）：特開2003-156849
出願日： 2002年02月27日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：
【要約】【課題】感度、解像度などの基本的な性能を落とさずにコストが低減され、また定在波による凹凸が小さく、パターンプロファイル、特にラインエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】ノボラック樹脂、及びそれ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、及び酸発生剤を含有し、該ノボラック樹脂が、ポリスチレンを標準品として該ノボラック樹脂をゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で254nmのUV検出器を用いて測定したときに、未反応のモノマーを除く全パターン面積に対して、分子量1,000以下の範囲の面積比が25%以下のノボラック樹脂である化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
ノボラック樹脂、及びそれ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、及び酸発生剤を含有し、該ノボラック樹脂が、ポリスチレンを標準品として該ノボラック樹脂をゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)で254nmのUV検出器を用いて測定したときに、未反応のモノマーを除く全パターン面積に対して、分子量1,000以下の範囲の面積比が25%以下のノボラック樹脂であることを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (15件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17
引用特許：
審査官引用 (3件)

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