特許
J-GLOBAL ID:200903039372674287
パターン形成体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
山下 昭彦
, 岸本 達人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-351778
公開番号(公開出願番号):特開2006-159030
出願日: 2004年12月03日
公開日(公表日): 2006年06月22日
要約:
【課題】 本発明は、電界ジェット法によるパターン形成体の製造方法であって、液体の吐出量や吐出方向を安定化することができるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】 本発明は、吐出ヘッドのノズルの吐出口の近傍に配置された第1電極と、上記吐出口および基体の間に配置され、吐出用空隙を有する第2電極と、の間に電圧を印加することにより上記吐出口から液体を吐出し、上記液体を上記第2電極の吐出用空隙を通過させて上記基体上に付着させ、上記基体上にパターンを形成することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記目的を達成するものである。【選択図】 図5
請求項(抜粋):
吐出ヘッドのノズルの吐出口の近傍に配置された第1電極と、前記吐出口および基体の間に配置され、吐出用空隙を有する第2電極と、の間に電圧を印加することにより前記吐出口から液体を吐出し、前記液体を前記第2電極の吐出用空隙を通過させて前記基体上に付着させ、前記基体上にパターンを形成することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
IPC (5件):
B05D 1/26
, B05B 5/08
, B05C 5/00
, B05D 3/00
, G02B 5/20
FI (5件):
B05D1/26 Z
, B05B5/08 B
, B05C5/00 101
, B05D3/00 D
, G02B5/20 101
Fターム (19件):
2H048BA02
, 2H048BA64
, 2H048BB01
, 2H048BB42
, 4D075AC06
, 4D075BB89Y
, 4D075BB91Y
, 4D075BB93X
, 4D075DC24
, 4D075EC11
, 4F034AA04
, 4F034BB15
, 4F034BB23
, 4F034CA02
, 4F041AA02
, 4F041AB02
, 4F041BA01
, 4F041BA10
, 4F041BA34
引用特許:
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