特許
J-GLOBAL ID:200903039378356422
有機塩素化合物含有機器の処理方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
奥山 尚一 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-347075
公開番号(公開出願番号):特開2003-145122
出願日: 2001年11月13日
公開日(公表日): 2003年05月20日
要約:
【要約】【課題】 生物処理によらないため、菌に起因する固形物などが発生せず、また多量の水も必要としないため、処理工程を簡素化することができ、かつ高い溶解性を有し、トランス等の機器が複雑な場合でも有機塩素化合物を十分に洗浄することができる有機塩素化合物含有機器の処理方法を提供する。【解決手段】 有機塩素化合物が入った機器から該有機塩素化合物を抜き取る工程と、その後、イソプロピルアルコールまたはトリクロロベンゼンを用いて該機器の内部を循環洗浄する洗浄工程とを含むことを特徴とする。
請求項(抜粋):
有機塩素化合物が入った機器から該有機塩素化合物を抜き取る工程と、その後、イソプロピルアルコールまたはトリクロロベンゼンを用いて該機器の内部を循環洗浄する洗浄工程とを含むことを特徴とする有機塩素化合物含有機器の処理方法。
IPC (4件):
B09B 5/00 ZAB
, B08B 3/08
, B09B 3/00
, H01F 41/00
FI (4件):
B08B 3/08 Z
, H01F 41/00 Z
, B09B 5/00 ZAB Z
, B09B 3/00 304 Z
Fターム (15件):
3B201AA47
, 3B201BB95
, 3B201CC21
, 3B201CD22
, 4D004AA50
, 4D004AB06
, 4D004CA02
, 4D004CA07
, 4D004CA13
, 4D004CA40
, 4D004CA42
, 4D004CB12
, 4D004CC04
, 4D004CC20
, 4D004DA17
引用特許:
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