特許

J-GLOBAL ID：200903039641413134

シミュレーション・プログラムのための入力生成、あるいは、レチクルのシミュレート画像生成のためのコンピュータに実装された方法

発明者： ズールブリック,レーリイ,スティーブン ,  レホン,ハロルド,ウィリアム
出願人/特許権者： ケイエルエイ-テンコー・テクノロジーズ・コーポレーション
代理人 (1件)： 藤岡 徹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-522574
公開番号（公開出願番号）：特表2008-507728
出願日： 2005年07月14日
公開日（公表日）： 2008年03月13日
要約：

各種のコンピュータに実装された方法が得られる。シミュレーション・プログラムのための入力を生成する一つのコンピュータに実装された方法は、部分的に製造されたレチクル上で検出された欠陥についての情報と、欠陥に近接したレチクルのエリアに割り当てられた位相についての情報とを組み合わせる工程を含んでいる。この位相は、欠陥が形成されているレベル以外のレベルで、レチクルに加えられることになる。この欠陥は、位相のレチクルへの追加の前に、レチクル上で検出される。別のコンピュータに実装された方法は、レチクルの一つのレベルの検査によって生成される欠陥についての情報を、レチクル上の異なるレベルについての情報と組合せで用いて、レチクル上の欠陥のシミュレート画像を生成する工程を含んでいる。

請求項（抜粋）：

シミュレーション・プログラムのための入力を生成するコンピュータに実装された方法であって、部分的に製造されたレチクル上で検出された欠陥についての情報と、該欠陥に近接した該レチクルのエリアに割り当てられた位相についての情報とを組み合わせる工程を含み、該位相は、該欠陥が形成されているレベル以外のレベルで、該レチクルに加えられることになることを特徴とする方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F1/08 S ,  H01L21/30 502P

Fターム (4件)：

2H095BD02 ,  2H095BD04 ,  2H095BD25 ,  2H095BD28

引用特許：

審査官引用 (4件)

• フォトマスク修正方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-217039   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社, 株式会社日立製作所
• 異物等の欠陥検出方法および検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-139848   出願人：株式会社日立製作所
• 目視検査及び照合システム
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-512171   出願人：ニューメリカルテクノロジーズインコーポレイテッド
• フォトマスク欠陥転写特性評価方法、フォトマスク欠陥修正方法及び半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-195625   出願人：株式会社東芝