特許
J-GLOBAL ID：200903039645759485
選択的酸化法による表面光レーザー(VCSEL)のアパーチャ製造装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-377774
公開番号（公開出願番号）：特開2001-332813
出願日： 2000年12月12日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 光スペクトル分析器を使って共振波長の変化を観察し、これによりアパーチャ製造工程をモニターリングできるようにした選択的酸化法による表面光レーザーのアパーチャ製造装置及び方法を提供する。【解決手段】 アパーチャ製造装置は、予備酸化層をもつ表面光レーザー用ウエハー10が置かれるステージ21と、ファーネスの外部に設けられ、光源21と、表面光レーザー用ウエハーから反射され光を受光する光スペクトル分析器41とを含んで、予備酸化層に形成されるアパーチャ径変化による共振ピーク波長の光強度変化からアパーチャ径を決定できるようにした。
請求項（抜粋）：
選択的酸化法によりアパーチャが形成されるべき予備酸化層をもつ表面光レーザー用ウエハーが置かれるステージと、入射光を透過させる第1及び第2ウィンドウをもつファーネスと、前記ファーネスの外部に設けられ、前記第1ウィンドウを通じて前記ステージ上に置かれた表面光レーザー用ウエハーの上面に光を照射する光源と、前記表面光レーザー用ウエハーから反射され前記第2ウィンドウを透過して入射した光を受光して光強度を検出する光スペクトル分析器とを含んで、前記予備酸化層に形成されるアパーチャ径の変化による共振ピーク波長の変化から前記アパーチャ径を決定できるようにしたことを特徴とする選択的酸化法による表面光レーザーのアパーチャ製造装置。
Fターム (5件)：
5F073AA74
, 5F073AB17
, 5F073CA05
, 5F073DA27
, 5F073DA35
