特許

J-GLOBAL ID：200903039646218437

シリコン粒子の製造方法及びシリコン膜の形成方法

発明者： 福山 恵一
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 梅田 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-205984
公開番号（公開出願番号）：特開平11-049507
出願日： 1997年07月31日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 液体状高次シランからシリコン膜を形成する際、Ni等の、不純物となりうる物質を用いることなしに低コスト、簡便でかつ低温形成が可能となるpoly-Si膜の形成方法を提供する。【解決手段】 シリコン粒子の製造、シリコン膜の形成ともに共通の原料として、爆発性、発火性のより低い液体状高次シランと、それよりも蒸気圧の低いアルコキシシラン或いはアルコキシシロキサンとの混合液体を用いる。この混合液体をスピンコータ8により基体9に塗布し、ゲージ圧50kPa以上に加圧して原料の一部からシリコン粒子を得る。さらに、多結晶シリコン膜を得るには、昇温して残留アルコキシシラン又は残留アルコキシシロキサンを蒸発させ、さらに加熱して前記方法で得たシリコン粒子を核として高次シランを重合させる。

請求項（抜粋）：

液体状高次シランと、液体状アルコキシシラン又は液体状アルコキシシロキサンとを混合或いは接触させた後、加圧することによりシリコン粒子を得ることを特徴とするシリコン粒子の製造方法。

IPC (3件)：

C01B 33/02 ,  B01J 19/00 ,  H01L 31/04

FI (3件)：

C01B 33/02 D ,  B01J 19/00 K ,  H01L 31/04 V

引用特許：

審査官引用 (1件)

• シリコンの製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-041680   出願人：株式会社高純度化学研究所