特許

J-GLOBAL ID：200903039670692980

露光装置

発明者： 山崎 舜平 ,  山口 直明 ,  福永 健司
出願人/特許権者： 株式会社半導体エネルギー研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-140791
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306826
出願日： 1996年05月10日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【目的】 スループットの高いステッパ露光装置を提供する。【構成】 露光光を形成する光学系101〜105、投影レンズ111〜115、反射光学系116〜120で構成される複数の露光用光学系を有するステッパ露光装置である。本露光装置により基板上の複数の領域を同時に露光することが可能となり、露光処理時間を大幅に低減することできる。

請求項（抜粋）：

露光光を形成する光学系と投影レンズとを少なくとも有する露光用光学系と、露光パターン形成用のレチクルおよび該レチクルを保持するサセプタと、被処理基板を保持する基板保持台と、を少なくとも有する投影型ステッパ露光装置において、前記被処理基板の露光は同一解像度の複数の前記露光用光学系を用いて同時に行われることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

H01L 21/30 502 C ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 503 D ,  H01L 21/30 525 L ,  H01L 21/30 527

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開平1-161243
  
• 投影露光方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-267182   出願人：株式会社日立製作所
• 特開昭60-109228
  
• 特開平3-057209
  
• 露光装置及び露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-212438   出願人：株式会社ニコン
• 特開平1-101628