特許

J-GLOBAL ID：200903039694151239

電気光学装置の製造方法、および電気光学装置

発明者： 北和田 清文
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  須澤 修 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-310001
公開番号（公開出願番号）：特開2009-134067
出願日： 2007年11月30日
公開日（公表日）： 2009年06月18日
要約：

【課題】少ない工程数で歩留まり良く各画素に光共振器構造を構成することができる電気光学装置の製造方法、および電気光学装置を提供することにある。【解決手段】電気光学装置100では、赤色光を出射するための第1画素11R、緑色光出射するための第2画素11Gと、および青色光を出射するための第3画素11Bの各々に光共振器構造を備えている。かかる光共振器構造を構成するにあたって、透光性絶縁膜73を形成するための透光膜の上層に、膜厚が以下の関係 第1画素11R>第2画素11G>第3画素11Bを満たすようにレジストマスクを形成した後、レジストマスクを表面側から除去するとともに、透光膜においてレジストマスクから露出した部分を表面側から除去して透光膜を各画素11で異なる膜厚の光学距離調整層として残す。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

少なくとも、第1波長の光を出射するための第1画素と、前記第1波長より短い第2波長の光を出射するための第2画素と、前記第1波長および前記第2波長より短い第3波長の光を出射するための第3画素とを有するとともに、 前記第1画素、前記第2画素、および前記第3画素は各々、膜厚が以下の関係 前記第1画素>前記第2画素>前記第3画素 を満たす光学距離調整層を具備する光共振器構造を備えた電気光学装置の製造方法において、 前記光学距離調整層を形成するにあたっては、 前記第1画素、前記第2画素、および前記第3画素に対して、前記光学距離調整層を構成するための透光膜を形成する透光膜形成工程と、 前記透光膜の上層に、膜厚が以下の関係 前記第1画素>前記第2画素>前記第3画素 を満たすようにマスクを形成するマスク形成工程と、 前記マスクを表面側から除去するとともに、前記透光膜において前記マスクから露出した部分を表面側から除去して当該透光膜を前記第1画素、前記第2画素、および前記第3画素で異なる膜厚の前記光学距離調整層として残す除去工程と を行なうことを特徴とする電気光学装置の製造方法。

IPC (5件)：

G09F 9/30 ,  H01L 27/32 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/24

FI (5件)：

G09F9/30 338 ,  G09F9/30 365Z ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/24

Fターム (25件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC07 ,  3K107CC45 ,  3K107DD10 ,  3K107DD22 ,  3K107DD23 ,  3K107DD24 ,  3K107DD27 ,  3K107DD28 ,  3K107DD29 ,  3K107EE33 ,  3K107FF15 ,  3K107GG11 ,  3K107GG13 ,  5C094AA08 ,  5C094AA42 ,  5C094AA43 ,  5C094BA03 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094EA04 ,  5C094GB10

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 国際公開第01/039554号パンフレット
  
• 発光装置、その製造方法および電子機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-209538   出願人：セイコーエプソン株式会社