特許
J-GLOBAL ID：200903039735891250
搬送室及びそのクリーニング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小原 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-254682
公開番号（公開出願番号）：特開平7-086188
出願日： 1993年09月17日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：
【要約】【目的】 搬送室を解体することなく、そのままの状態で内部を構成部材を損ねるこなく完全にクリーニングすることができる搬送室を提供する。【構成】 本搬送室は、半導体ウエハ8を搬送する第1、第2搬送装置9、23を収納する第1、第2搬送室4、16において、これらの搬送室4、16にガス供給口4A、25A及びガス排気口4B、25Bを設け、各ガス供給口4A、25Aにクリーニングガス供給系35を接続し、このクリーニングガス供給系35から第1、第2搬送室4、16内にClF3ガスを供給し、このClF3ガスにより第1、第2搬送室4、16の内部に付着した付着物をクリーニングするように構成されている。
請求項（抜粋）：
被搬送体を搬送する搬送装置が設られた搬送室において、上記搬送室の内部をクリーニングするClF3ガスを供給するクリーニングガス供給手段を上記搬送室に設けたことを特徴とする搬送室。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, H01L 21/22 511
, H01L 21/68
