特許

J-GLOBAL ID：200903039746856457

電子サイクロトロン共鳴プラズマCDV装置

発明者： 河合 良信 ,  竹内 良昭 ,  村田 正義
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-241195
公開番号（公開出願番号）：特開平5-082449
出願日： 1991年09月20日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：

【要約】【目的】均一な薄膜を形成できるECRプラズマCVD装置を提供する。【構成】マイクロ波発振器100で発生したマイクロ波を、マイクロ波分配器101、アイソレータ102、スタブチューナ107を介して導波管103中を伝播させて空洞室108に導入し、さらにボールアンテナ109、同軸管110、112、同軸コネクタ111を介してプラズマ生成室204内のスリット付金属板113に供給してプラズマを発生させ、磁気コイル214で磁界を発生させて電子サイクロトロン共鳴を起こし、これにより反応容器208内で反応ガスを解離させて生成物を堆積させる電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD装置において、プラズマ生成室内に2枚のスリット付金属板113を対向して設置し、2枚のスリット付金属板113へのマイクロ波の供給点を対角の位置に配置する。

請求項（抜粋）：

マイクロ波発振器で発生したマイクロ波を、マイクロ波分配器、アイソレータ、スタブチューナを介して導波管中を伝播させて空洞室に導入し、さらにボールアンテナ、同軸管、同軸コネクタを介してプラズマ生成室内のスリット付金属板に供給してプラズマを発生させ、磁気コイルで磁界を発生させて電子サイクロトロン共鳴を起こし、これにより反応容器内で反応ガスを解離させて生成物を堆積させる電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD装置において、プラズマ生成室内に2枚のスリット付金属板を対向して設置し、2枚のスリット付金属板へのマイクロ波の供給点を対角の位置に配置したことを特徴とする電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD装置。

IPC (7件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  G01N 24/14 ,  G01R 33/64 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/316 ,  H05H 1/18