特許
J-GLOBAL ID：200903039790249193
パターン形成体及びパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人アイテック国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-323846
公開番号（公開出願番号）：特開2007-133020
出願日： 2005年11月08日
公開日（公表日）： 2007年05月31日
要約：
【課題】明瞭なパターン形成が可能な新規なパターン形成体を提供する。【解決手段】表面に光照射すると、ハイドロゲルの表面に化学結合している疎水性の光応答性物質の会合状態が変化する。パターン形成体の表面修飾部を水に接触させると、光応答性物質が互いに弱く会合しているときには表面修飾部がハイドロゲルに覆われる。この結果、パターン形成体の表面は親水性となる。一方、光応答性物質が互いに強く会合しているときには表面修飾部が疎水性の光応答性物質によって覆われる。この結果、パターン形成体の表面は疎水性となる。このように、光照射により、その露光部と非露光部とでパターン形成体の表面の親水性と疎水性とをドラスティックに変化させることができる。この結果、パターン形成体の表面に疎水性物質又は親水性物質を吸着又は脱着させたときに明瞭なパターン形成を行うことができる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
光照射したときの露光部と非露光部との水濡れ性の相違を利用してパターン形成可能なパターン形成体であって、
ハイドロゲルと、
光照射によって会合状態が変化するか又は架橋形成状態が変化する疎水性の光応答性物質を前記ハイドロゲルの表面に化学結合させてなる表面修飾部と、
を備え、
前記表面修飾部は、水と接触させた状態では、前記疎水性の光応答性物質が互いに弱く会合しているとき又は架橋が形成されていないときに前記ハイドロゲルによって覆われて親水性となり、前記疎水性の光応答性物質が互いに強く会合しているとき又は架橋が形成されているときに該疎水性の光応答性物質に覆われて疎水性となる、
パターン形成体。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (8件)：
2H025AA02
, 2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC03
, 2H025BC09
, 2H025BC10
, 2H025BH03
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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