レジスト剥離液組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：服部平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-246712
公開番号（公開出願番号）：特開平8-087118
出願日： 1994年09月16日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：

【要約】【構成】(a)Nーアルキルアルカノールアミン50〜90重量%と(b)ジメチルスルホキシド及びN-メチル-2-ピロリドンから選ばれる少なくとも1種50〜10重量%からなる組成物、及び前記組成物にさらに配合剤を配合したレジスト剥離液組成物。【効果】本発明のレジスト用剥離液組成物は、安全性、剥離性、腐食防止性等の性質に優れ、しかも過酷な剥離条件下においても安定に剥離作用を持続し、高品質の半導体素子や液晶パネル素子を製造できる。

請求項（抜粋）：

(a)Nーアルキルアルカノールアミン50〜90重量%と(b)ジメチルスルホキシド及びN-メチル-2-ピロリドンから選ばれる少なくとも1種50〜10重量%を含有することを特徴とするレジスト剥離液組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/42 , H01L 21/027

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭64-081950
特開昭64-081949
特開平4-289866

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審査官引用 (7件)

特開平4-289866
特開昭64-081950
特開平4-124668

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