フォトレジスト剥離液

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：池浦敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-051548
公開番号（公開出願番号）：特開平6-244099
出願日： 1993年02月17日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：

【要約】【構成】下記一般式化1で示されるイミノビスアルキルアミン類の少なくとも一種を10〜100重量%含有する。【化1】(式中、Rは水素原子、炭素数1〜3のアルキル基又は炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基を表わし、またn及びmはそれぞれ1〜3の整数を表わす。)【効果】本剥離液によると、フォトレジストを完全に除去することができ、しかも水溶性であるため、処理後の工程が水洗浄だけで済む。

請求項（抜粋）：

下記一般式化1で示されるイミノビスアルキルアミン類の少なくとも一種を10〜100重量%含有することを特徴とするフォトレジスト剥離液。【化1】(式中、Rは水素原子、炭素数1〜3のアルキル基又は炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基を表わし、またn及びmはそれぞれ1〜3の整数を表わす。)

IPC (2件)：

H01L 21/027 , H01L 21/306

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開平4-124668
特開平1-105949
特開昭63-208043

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審査官引用 (5件)

特開平4-124668
特開平1-105949
特開昭63-208043

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